“刻蚀—溅射”组合机

                                                                                          产品主要性能指标

                                                                                                     

                                                                                          型号

                                                                                          JR-2B

                                                                                          真空系统

                                                                                          分子泵机组

                                                                                          刻蚀室规格

                                                                                          ?300×100mm

                                                                                          刻蚀电极尺寸

                                                                                          ?200mm

                                                                                          刻蚀材料

                                                                                          Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、W、Mo、GaN、GaAs?#21462;?/span>

                                                                                          刻蚀速率

                                                                                          0.1 – 1 μ/min (与刻蚀材料和工艺有关)

                                                                                          刻蚀不均匀性

                                                                                          ≤±5%

                                                                                          溅射室规格

                                                                                          ?450×360mm

                                                                                          溅射靶规格

                                                                                          ?80mm

                                                                                          溅射靶数量

                                                                                          1-4可选

                                                                                          溅射材料

                                                                                          AI、Au、Cr、Ti、Ni、Cu、W、SiO2、各种介质膜、金属膜、合金膜?#21462;?/span>

                                                                                          溅射样片台加热温度

                                                                                          600℃

                                                                                          刻蚀不均匀性

                                                                                          ≤±4%


                                                                                          “刻蚀–溅射”组合机(JR-2B)、“刻蚀–淀积”组合机(CVE-2B)、“刻蚀–淀积”组合机(ICV-500)和“溅射–淀积”组合机(JCV-2B)都是根据用户要求需设计的,就其功能和性能指标而言与溅射台、淀积台、刻蚀机都是相同的,其主要特点是省去了一套电源系统和真空获得系统,从而以相对优惠的价格满足不同用户的要求.

                                                                                          ?#23601;?#31449;由阿里云提供云计算及安全服务
                                                                                          彩票七乐彩走势图机选

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